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Micropto_TOP
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Elenco
dei fotosensori
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Di seguito sono elencati i
fotodiodi ed i fototransistori in silicio che montiamo nei nostri optodispositivi. Altri
modelli (disponibili anche in GaAs) ve ne sono in coda a questa pagina. I principali sono
dotati di caratteristiche speciali:
- alta velocitą
- alta responsivity
- copertura antiriflesso (ARC) filtro ¼ d'onda
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MO-DFD01 Fotodiodo in Silicio P/N
Copertura Antiriflesso
Dimensioni del chip: 2,3 mm x 1,1 mm
Area attiva del Fotodiodo: 1,89 mm2 (2,1 mm x 0,9 mm)
Spessore del Chip: 0,385 mm
Silicon P/N photodiode
Antireflective coating
Chip size: 2,3 mm x 1,1 mm
Photodiode active area: 1,89 mm2 (2,1 mm x 0,9 mm)
Chip thickness: 0,385 mm
Maggiori
informazioni su: DFD01 |
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MO-DFT02 Fototransistore in Silicio NPN
Copertura Antiriflesso
Dimensioni del chip: 0,71 mm x 0,50 mm
Area attiva del Fototransistore: 0,08 mm2 (0,20 mm x 0,40 mm)
Spessore del chip: 0,180 mm
Guadagno molto uniforme: ± 15%
Silicon NPN phototransistor
Antireflective coating
Chip size: 0,71 mm x 0,50 mm
Phototransistor active area: 0,08 mm2 (0,20 mm x 0,40 mm)
Chip thickness: 0,180 mm
High gain uniformity: ± 15%
Maggiori
informazioni su: DFT02 |

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MO-DFT01 (NUOVO - in sviluppo!) Fototransistore in Silicio NPN ottimizzato alta velocitą con ampia
area attiva
Copertura Antiriflesso
Dimensioni del chip: 0,95 mm x 0,60 mm
Ampia area attiva del Fototransistore: 0,180 mm2 (0,45 mm x 0,40 mm)
Spessore del chip: 0,240 mm
Guadagno molto uniforme: ± 15%
High performance Silicon NPN phototransistor (high
speed with wide active area)
Antireflective coating
Chip size: 0,95 mm x 0,60 mm
Phototransistor active area: 0,180 mm2 (0,45 mm x 0,40 mm)
Chip thickness: 0,240 mm
High gain uniformity: ± 15%
Maggiori
informazioni su: DFT01 |

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MO-DMTxxL Fototransistore monolitico in silicio NPN ottimizzato
Passo ottico: 0,60 mm
Copertura antiriflesso
Monolitico: numero di fototransistori a richiesta del cliente
Area attiva del fototransistore: 0,180 mm2 (0,45 mm x 0,40 mm)
Spessore del chip: 0,240 mm
Guadagno molto uniforme: ±15%
High performance monolitic silicon NPN phototransistor
Optical pitch: 0,60 mm
Antireflective coating
Array: bit number on customers request
Phototransistor active area: 0,180 mm2 (0,45 mm x 0,40 mm)
Chip thickness: 0,240 mm
High gain uniformity: ±15%
Maggiori
informazioni su: DMTxx |
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MO-DMTxxS Fototransistore monolitico in silicio NPN ottimizzato
Passo ottico: 0,68 mm
Copertura antiriflesso
Monolitico: numero di fototransistori a richiesta del cliente
Area attiva del fototransistore: 0,180 mm2 (0,45 mm x 0,40 mm)
Spessore del chip: 0,240 mm
Guadagno molto uniforme: ±15%
High performance monolitic silicon NPN phototransistor
Optical pitch: 0,68 mm
Antireflective coating
Array: bit number on customers request
Phototransistor active area: 0,180 mm2 (0,45 mm x 0,40 mm)
Chip thickness: 0,240 mm
High gain uniformity: ±15%
Maggiori
informazioni su: DMTxx |

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MO-DCD03 Sensore di colore monolitico.
Tricromia RGB
Fotodiodi.
Monolithic color sensor
RGB sensor
Photodiodes.
Maggiori
informazioni su: DCD01 |
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Strutture e disposizioni
particolari sono realizzabili su disegno e proposta dei nostri clienti. Elenco dei fotosensori che
abbiamo a disposizione e che possiamo montare a richiesta nei nostri optodispositivi
(sensore + package)
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PRODOTTI |
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Micropto S.r.l.
Via M. Melloni, 6
20129 Milano (Italy)
Tel.: +39.02.76316761
Tel.: +39.02.76011848
Fax: +39.02.76026262
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